[口头报告]基于原子级模拟的探索实现Ti掺杂改善MoS2低温耐磨性研究

基于原子级模拟的探索实现Ti掺杂改善MoS2低温耐磨性研究
编号:1350 稿件编号:518 访问权限:仅限参会人 更新:2026-04-16 17:32:46 浏览:31次 口头报告

报告开始:2026年04月28日 16:10 (Asia/Shanghai)

报告时间:15min

所在会议:[S] 数据驱动表面工程技术论坛 » [S2] S下午场

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摘要
二硫化钼(MoS2)是一种极具应用前景的固体润滑材料,其层间作用力较弱,因而易于发生剪切滑移,但在低温环境下其耐磨性能会明显下降。为提升MoS2在低温条件下的服役性能,采用钛掺杂作为一种微观结构调控策略对其进行强化。实验结果与模拟分析表明,分散分布的Ti能够改变材料局部键合状态,诱导形成Ti-S配位结构,并在层间构建由Ti、S及Ti-S团簇组成的连接网络。该纳米尺度结构通过引入晶格畸变和增强层间钉扎作用,显著抑制层间剪切,使材料硬度提升至1.93 GPa,弹性模量提升至45.30 GPa。尽管界面强化会导致摩擦系数有所升高,但在223 K条件下材料的磨损显著降低。原子级模拟进一步表明,未掺杂MoS2在摩擦过程中主要表现为逐步发生的层间滑移及局部剥层,而Ti掺杂后,受钉扎作用影响的表层更倾向于以整体协同的块体式方式发生变形,从而实现更均匀的应力传递与释放。与此同时,弯曲刚度的提高也有效抑制了褶皱变形,为低温环境下高耐久固体润滑涂层的设计提供了明确思路。
关键字
低温摩擦学性能,分子动力学模拟,固体润滑涂层,二硫化钼涂层
报告人
唐梓焜
博士 西北工业大学

稿件作者
青周 西北工业大学
唐梓焜 西北工业大学
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